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很少有研究者关注电解池的槽压,这是因为大部分电解池体系都是基于导电性较好的水溶液体系或者是两电极系统。然而,当电流较大、电解液电导率较低又或者辅助电极被多孔陶瓷隔开时,参比电极和辅助电极之间的电压降会非常显著,槽压就成了一个非常重要的参数。
如上图所示:在一个三电极体系中,电流是在工作电极W和辅助电极C之间流动,测量的电压是工作电极W与参比电极R之间的电势差,而工作电极W与辅助电极C之间的电压称为槽压。假设图片所示电流为10mA,此时测量电压为10V,而槽压却高达60V。如果电化学工作站的槽压不够高,那么它将无法施加所指定的电压或者电流。
例如下图中:Joffrey1为了研究Al₇Cu₂Fe 和 MgZn₂在硫酸溶液中的腐蚀行为,其极化电压就高达20V,而其槽压将*过20V。
而Rocca2等为了研究镁合金微弧氧化的过程,更是将施加电压从0V扫描到80V(如下图)。
*近也有不少电催化的研究体系,由于样品电流密度较大,在H型电解池里槽压可以高达30V以上。其他高槽压体系还包括钢筋混凝土、有机溶液电化学和电池堆。
[1] Rocca J . Electrochemical behavior of intermetallic phases in sulfuric acid at high voltage – anodization of Al7Cu2Fe and MgZn2 phase.
[2] Rocca et al, In-situ electrochemical characterization of “discharges initiation” during micro-arc oxidation of Mg alloys.
[3] Sarah et al, RSC Adv., 2019,9, 29305-29311
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