CHM-如何实现SKP等距离扫描

在使用微区探针扫描技术时，广大科研工作者都很关心样品表面是否平整，以实现探针与样品表面恒高度扫描。然而，实际样品表面都会有一定的起伏，其他条件合适时，探针在理想的恒定高度下扫描出的微观信息分布会受到样品表面起伏的影响，因而无法准确判断微观信息面分布产生的原因。这是样品本身的差异，还是由样品表面的起伏波动造成的呢？我们无从得知。

VersaSCAN CHM模式助力SKP等距离扫描

普林斯顿Versa SCAN新版本的软件中提供一种电容高度测量模式CHM来探知扫面的微观区域探针与样品之间的距离。CHM全称为Capacitive Height Measurement，这是一种非接触式，无损的测量方式，是基于探针|空气|样品之间的电容信息来获取高度距离信息的技术。SKP的测量可以基于CHM获得的样品表面的高度形貌信息，从而在SKP扫描过程中来保持探针-样品的相对距离保持不变。

‘CHM-SKP’ 这对组合能更为精准地测量表面功函差。系统能够在整个范围扫描过程中, 排除表面形貌结构起伏之影响, 从而获得高信噪比数据。

以下为CHM模式扫描硬币的部分区域，以此来获得探针与样品表面的起伏-探针尖端与样品表面的相对距离信息。

在热门电催化HOR文献中，基于CHM模式获取相对高度信息后获得的SKP面扫描数据，SKP扫描过程中，始终保持探针与样品表面的相对距离恒定不变，探针会跟随着样品的表面起伏而上下移动，始终保持与样品表面恒定的距离，获得高精度的功函数据图。金属催化反应速率依赖于催化剂的功函，也被称为电化学促进多相催化(EPOC)反应。此外多晶铂基纳米粒子的电催化行为与功函之间的反比关系*近被用于氧还原反应过程。[1]

[1] Hasannaeimi V, Mukherjee S. Noble-Metal based Metallic Glasses as Highly Catalytic Materials for Hydrogen Oxidation Reaction in Fuel Cells[J]. Scientific Reports.

更多微区测试模式助力科研

VersaScan电化学工作站包含多个测试模块，常见的有SKP/SVET/LEIS/SECM等，区别于电化学宏观测试，微区探针技术可以直观地获得样品表面微观区域的电化学信息，常被应用于金属-涂层机理研究，电催化动力学过程及活性位点，生物活性材料等